一、潔淨室的定义

　　潔淨室，英文名CleanRoom，根据国人的语方习惯也称为无尘间、无尘房、无尘室、洁净间、洁净房、净化房、净化室、净化间、清洁房等。潔淨室的主要功能为控制室内污染，没有潔淨室，污染敏感零件不可能批量生产。在FED-STD-2里面，潔淨室被定义为具备空气过滤、分配、优化、构造材料和装置的房间，其中特定的规则的操作程序以控制空气悬浮微粒浓度，从而达到适当的微粒洁净度级别。洁净程度和控制污染的持续稳定性，是检验潔淨室质量的核心标准，该标准根据区域环境、净化程度等因素，分为若干等级，常用的有国际标准和国内区域行业标准。详见：我公司《空气淨化工程介绍》。
 

　　潔淨室是指将一定空间范围内之空气中的微粒子、有害空气、细菌等之污染物排除，并将室内之温度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给予特别设计之房间。亦即是不论外在之空气条件如何变化，其室内均能俱有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能之特性。

　　潔淨室相对無塵車間、净化厂房来说，其体积量大小要小很多，通常是指单体房间的淨化工程，潔淨室是空气无尘淨化工程中的一个应用很广泛的项目。

　　二、潔淨室的应用行业

　　淨化工程是一个应用行业非常广泛的基础性配套产业，在电子信息、半导体、光电子、精密制造、医药卫生、生物工程、航天航空、汽车喷涂等众多行业均有应用，并根据行业的精密与无尘要求，等级差别也较大。

　　潔淨室容量体积相对较小，故潔淨室基本应用在上述净化应用行业中储藏、检测、实验、化验等工序之中。根据国人的语方表达习惯也将潔淨室称为无尘间、无尘房、无尘室、洁净间、洁净房、净化房、净化室、净化间、清洁房等等。
 

　　三、潔淨室的组成部分

　　潔淨室的构成是由下列各项系统所组成（在所组成的系统分子中是缺一不可的），否则将无法构成一完整且品质良好的潔淨室。

　　1、围房构建，即组成潔淨室的密封性空间。包括：

　　1)天花板系統：包括吊杆（Ceilingrod）、綱梁（I-Beam或U-Beam）、天花板格子梁（Ceilinggrid或Ceilingframe）。

　　2)隔牆板（Partitionalwall）：包括窗戶、門。

　　3)地板：包括高架地板、防靜電板、環氧自流坪、PVC淨化地板等。

　　4)室内室内通道辅件：包括風淋室、更衣室、传递窗等

　　2、空氣調節淨化系統，包括：

　　1)淨化機組、

　　2)過濾器系統

　　3)管道系統:風管、水管、銅管等

　　3、智能控制部份，包括：

　　1)照明與照明控制

　　2)智能與遠程控制系統

　　四、潔淨室分类

　　潔淨室主要分为工业潔淨室（无尘）和生物潔淨室（无尘，无菌）

　　工业潔淨室和生物潔淨室其实都是属于潔淨室，本质上的区别主要一个是针对无尘，一个针对无菌，两者主要目的有所区别，因此在设计和施工要有所侧重。

　　工业潔淨室适用于精细机械工业、电子工业（半导体、集成电路等）宇航工业、高纯度化学工业、原子能工业、光磁产品工业（光盘、胶片、磁带消费）LCD（液晶玻璃）、电脑硬盘、电脑磁头消费等多行业。

　　生物潔淨室适用于制药工业、医院（手术室、无菌病房）、食品、化装品、饮料产品消费、动物实验室、理化检验室、血站等。
 

　　五、潔淨室中的温湿度控制

　　潔淨室的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。

　　例如在大規模集成電路生産的光刻曝光工藝中，作爲掩膜板材料的玻璃與矽片的熱膨脹系數的差要求越來越小。直徑100um的矽片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因爲人出汗以後，對産品將有汙染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。濕度過高産生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生鏽。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把矽片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于矽片生産最佳溫度範圍爲35—45%。